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PECVD设备 ICPECVD等离子体化学气相沉积系统

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产地:美国
NPE 4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉
磁控溅射镀膜机 NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特

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NSC 3500(A)全自动磁控溅射系统概述 带有水冷或者加
LPMS  CVD12侧式真空气相沉积设备

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制冷量:887 W 最低製冷溫度:-90℃ 真空泵抽氣速率:90 m?
真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备 工作时
上海伯东进口原子层沉积设备 Thermal ALD

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化学气相沉积设备定做 北京沈阳鹏程 化学气相沉积设备

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拉奇纳米 台湾气相沉积设备多少钱 台湾气相沉积设备

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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜 具体包括很
拉奇纳米 纳米镀膜加工厂 纳米镀膜

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有机高分子奈米薄膜 属高绝缘性 无 膜厚一致性的耐薄膜 其防
超低温制冷机组-80℃、-100℃、-120℃,低温冷却机组

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主要生产 60℃至 140℃超低温制冷机组 60℃至 1
CVD气相沉积炉

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应用领域:化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H
上海伯东代理电子束蒸镀系统 E-beam,蒸发镀膜机

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化学气相沉积设备进口清关

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